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      下一代EUV光刻機(jī)

      當(dāng)前大芯片十分火熱,但卻由于尺寸太大無法適應(yīng)高 NA 曝光工具的 ? 場。為了能夠繼續(xù)生產(chǎn)具有相似尺寸的芯片,需要采用拼接。換句話說,就是一部分芯片使用一個(gè)掩膜進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印,而其余部分通過第二個(gè)掩膜曝...